El Consejo de Gabinete aprobó este martes autorizar a la ministra de Gobierno, Dinoska Montalvo, a presentar ante la Asamblea Nacional el proyecto de ley No. 8-26, que propone incorporar el artículo 169-A al Código Penal.
La iniciativa introduce una nueva figura penal relacionada con el uso de capuchas, pasamontañas, máscaras u otros elementos destinados a ocultar total o parcialmente el rostro durante manifestaciones, protestas u otras concentraciones públicas.
Actualmente, el artículo 169 del Código Penal establece que quien impida de manera ilegal una reunión pacífica y lícita puede enfrentar una pena de prisión de uno a tres años, o su equivalente en días-multa o arresto de fines de semana. Si la conducta es cometida por un servidor público, la sanción aumenta de dos a cuatro años de prisión.
Con la propuesta del Ejecutivo, el nuevo artículo 169-A establecería que toda persona que, durante una manifestación o concentración pública, utilice mecanismos para ocultar su identidad con el propósito de provocar, ejecutar o incitar actos de violencia, intimidación u odio, podrá ser castigada con prisión de dos a cuatro años.
Además, el proyecto contempla penas más severas cuando el uso de estos elementos facilite, encubra o favorezca la comisión de delitos contra la vida, la integridad personal, el patrimonio o la administración pública. En esos casos, la sanción sería de cuatro a seis años de prisión, sin perjuicio de las penas adicionales correspondientes por los delitos que se lleguen a cometer.
El proyecto deberá ahora ser discutido en la Asamblea Nacional como parte del trámite legislativo correspondiente.
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